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參 數 名 稱 |
單 位 |
配置 |
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沉積類型 |
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二氧化硅，氮化硅，類金剛石等 |
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電 源 |
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射頻電源，帶正向功率和反射功率計指示，帶匹配器 |
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加熱系統(tǒng) |
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平板式雙反應室系統(tǒng)，帶加溫和勻氣系統(tǒng) |
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工 作 溫 度 |
℃ |
100~600℃ |
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基片臺尺寸 |
(φ×H)mm |
1英寸、二英寸、三英寸、四英寸 |
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基片臺轉速 |
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轉速0-20RPM |
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控 溫 精 度 |
℃ |
±1 |
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極限真空 |
pa |
8.0×10-5 |
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密封系統(tǒng) |
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磁流體密封 |
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水冷、氣路系統(tǒng) |
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冷卻水循環(huán)機、無噪聲氣泵 |
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報警及保護 |
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對缺水、過流過壓、斷路等異常情況進行報警及相應保護措施 |
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真空系統(tǒng)
（選 配） |
真空系列 |
單級機械泵、擴散泵機組、分子泵 |
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工作腔體 |
不銹鋼 | |
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氣氛系統(tǒng) |
浮子流量計、進口、國產質量流量計 | |
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記錄裝置 |
進口、國產無紙記錄儀 | |
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