聚氨酯碳納米管研磨分散機(jī),聚氨酯漿料高速分散機(jī),碳納米管漿料高速分散機(jī),納米研磨分散機(jī)
一、如何實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量碳納米管的連續(xù)批量工業(yè)化生產(chǎn)。（1-7-7-1-7-0-1-4-6-6-9）
碳納米管制備現(xiàn)狀大致是：多壁碳納米管能較大量生產(chǎn)，單壁碳納米管多數(shù)處于實(shí)驗(yàn)室研制階段，某些制備方法得到的碳納米管生長(zhǎng)機(jī)理還不明確，對(duì)碳納米管的結(jié)構(gòu)(管徑、管長(zhǎng)、螺旋度、壁厚、管表面石墨碳的結(jié)晶度等)還不能做到任意調(diào)節(jié)和控制，影響碳納米管的產(chǎn)量、質(zhì)量及產(chǎn)率的因素太多(如催化劑顆粒的大小、碳源的種類、溫度、混合氣體的種類及比例等)，使制得的碳納米管都存在雜質(zhì)高、產(chǎn)率低等缺點(diǎn)，還沒(méi)有高效的純化碳納米管的方法。
二、如何更深入研究碳納米管實(shí)際應(yīng)用問(wèn)題。例如，在常溫常壓下如何解析氫氣及加快其儲(chǔ)氫放氫速度。如何提高碳納米管吸附容量的穩(wěn)定性和吸附壓力的敏感性。再如，怎樣才能制備出性能更為優(yōu)異或能預(yù)期其性能的碳納米管復(fù)合材料。要解決這些共同難題，就需要研究人員們一方面突破技術(shù)關(guān)鍵，進(jìn)一步研究開(kāi)發(fā)新的、成本低廉、適合于大規(guī)模生產(chǎn)碳納米管的技術(shù)，通過(guò)建模和模擬來(lái)加強(qiáng)生長(zhǎng)現(xiàn)象與機(jī)理研究；另一方面繼續(xù)深入研究其應(yīng)用，把碳納米管與各個(gè)領(lǐng)域結(jié)合起來(lái)，充分發(fā)揮其自身優(yōu)異的特性。
碳納米管分散技術(shù)三要素：分散介質(zhì)、分散劑和分散設(shè)備
1、分散介質(zhì)
根據(jù)粘度不同，分散介質(zhì)分為高粘度、中粘度和低粘度三種。在低粘度介質(zhì)中，如水和有機(jī)溶劑，碳納米管易于分散。中粘度介質(zhì)如液態(tài)環(huán)氧樹(shù)脂、液態(tài)硅橡膠等，高粘度介質(zhì)如熔融態(tài)的塑料。
2、分散劑
（1）分散劑的選擇，與分散介質(zhì)的結(jié)構(gòu)、極性、溶度參數(shù)等密切相關(guān)
（2）分散劑的用量，與碳納米管比表面積和共價(jià)鍵修飾的功能基團(tuán)有關(guān)
（3）水性介質(zhì)中，推薦使用TNWDIS。強(qiáng)極性有機(jī)溶劑中，如醇、DMF、NMP， 推薦使用TNADIS。中等極性有機(jī)溶劑如酯類、液態(tài)環(huán)氧樹(shù)脂、液態(tài)硅橡膠，推薦使用TNEDIS
3、分散設(shè)備
（1）超聲波分散設(shè)備：非常適合實(shí)驗(yàn)室規(guī)模、低粘度介質(zhì)分散碳納米管，用于中、高粘度介質(zhì)時(shí)會(huì)受到限制
（2）研磨分散設(shè)備：適合大規(guī)模地分散碳納米管、中粘度介質(zhì)分散碳納米管
（3）采用“先研磨分散、后超聲波分散”組合方法，可以高效、穩(wěn)定地分散碳納米管
SGN研磨式分散機(jī)是由膠體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。
第一級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。
第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)樵趯?duì)輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個(gè)很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。
GMD2000系列的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當(dāng)物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說(shuō)的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
設(shè)備等級(jí)：化工級(jí)、衛(wèi)生I級(jí)、衛(wèi)生II級(jí)、無(wú)菌級(jí)
電機(jī)形式：普通馬達(dá)、變頻調(diào)速馬達(dá)、防爆馬達(dá)、變頻防爆馬達(dá)、
電源選擇： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機(jī)選配件： PTG 熱保護(hù)、降噪型
研磨分散機(jī)材質(zhì)：SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機(jī)選配：儲(chǔ)液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動(dòng)小車
研磨分散機(jī)表面處理：拋光、耐磨處理
進(jìn)出口聯(lián)結(jié)形式：法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機(jī)選配容器：本設(shè)備適合于各種不同大小的容器
SGN研磨分散機(jī)設(shè)備選型表：（1-7-7-1-7-0-1-4-6-6-9）
|
研磨分散機(jī) |
流量* |
輸出 |
線速度 |
功率 |
入口/出口連接 |
|
類型 |
l/h |
rpm |
m/s |
kW |
|
|
GMD 2000/4 |
300 |
9,000 |
23 |
2.2 |
DN25/DN15 |
|
GMD 2000/5 |
3000 |
6,000 |
23 |
7.5 |
DN40/DN32 |
|
GMD 2000/10 |
8000 |
4,200 |
23 |
22 |
DN80/DN65 |
|
GMD 2000/20 |
20000 |
2,850 |
23 |
37 |
DN80/DN65 |
|
GMD 2000/30 |
40000 |
1,420 |
23 |
55 |
DN150/DN125 |
|
GMD2000/50 |
80000 |
1,100 |
23 |
110 |
DN200/DN150 |
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*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，同時(shí)流量可以被調(diào)節(jié)到Z大允許量的10%。 |
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1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測(cè)定數(shù)據(jù)。
2 處理量取決于物料的粘度，稠度和產(chǎn)品的要求。
3 如高溫，高壓，易燃易爆，腐蝕性等工況，必須提供準(zhǔn)確的參數(shù)，以便選型和定制。
4 本表的數(shù)據(jù)因技術(shù)改動(dòng)，定制而不符，正確的參數(shù)以提供的實(shí)物為準(zhǔn)。
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