一、產(chǎn)品名稱概述：
北京納米二氧化硅分散液研磨分散機，ox50納米氧化硅分散液分散機，連續(xù)式研磨分散機，改進型膠體磨研磨分散機
二、基本和物料介紹：
1.思峻（SGN）研磨分散機設(shè)計獨特，能夠延長易損件的使用時間，因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎。可以一機多用，也可以單獨使用，且粉碎粒度范圍廣，成品粒徑可以進行調(diào)整。
2.二氧化硅水分散體在拋光應(yīng)用(CMP)、紙業(yè)(噴墨)或在玻璃生產(chǎn)中使用。出于經(jīng)濟和實際應(yīng)用原因，在這些應(yīng)用中使用具有高二氧化硅粉末含量的分散體是理想的。
3.含有火焰水解反應(yīng)工藝生產(chǎn)的二氧化硅并且不含穩(wěn)定劑的水分散體僅在填充含量低于30重量％時表現(xiàn)出可接受的穩(wěn)定性。當(dāng)填充含量更高時，其在非常短的時間內(nèi)發(fā)生凝結(jié)或沉降。
4.納米二氧化硅具有極小的粒徑、較大的比表面積和優(yōu)良的化學(xué)性能，表現(xiàn)出良好的親水性、補強性、增稠性、消光性和防茹結(jié)性，因此廣泛應(yīng)用于橡膠、涂料、醫(yī)藥、油墨等領(lǐng)域。由于粉體的納米二氧化硅的表面親水疏油，呈強極性，在有機介質(zhì)中難以均勻分散，從而導(dǎo)致材料性能下降。
5.現(xiàn)有技術(shù)中，通常是在納米顆粒膠體物系中加入電解質(zhì)、表面活性劑、聚電解質(zhì)，使之吸附在顆粒表面是防止納米顆粒團聚生長的有效方法，這樣可以提高二氧化硅分散液的穩(wěn)定性。但總體說來，通過加入電解質(zhì)、表面活性劑、聚電解質(zhì)作用針對分散相，并未實質(zhì)與納米二氧化硅顆粒結(jié)合，因此導(dǎo)致其制備的分散液的分散性均不理想。
6.納米二氧化硅分散到液體之后，依據(jù)不同的分散體系，其外觀從白色乳狀到無色透明。從檢測上來看D90<100納米以下的體系，在外觀上都呈現(xiàn)視覺透明的狀態(tài)。納米的分散是一個世界性的技術(shù)難題?？上驳氖悄壳俺霈F(xiàn)了某些技術(shù)，使用某些納米顆?？梢越馍⒌絾畏稚⒌臓顟B(tài)。其中之一就有納米二氧化硅。
三、設(shè)備介紹：
1.上海思峻的研磨分散機特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料。研磨分散機為立式分體結(jié)構(gòu)，精密的零部件配合運轉(zhuǎn)平穩(wěn)，運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到低，保證機器連續(xù)24小時不停機運行。簡單的說就是將SGN/思峻膠體磨進行進一步的改良，將單一的膠體磨磨頭模塊，改良成兩級模塊，加入了一級分散盤。可根據(jù)物料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇） SGN研磨分散機可以高速研磨，分散，乳化，均質(zhì)等功能，設(shè)備轉(zhuǎn)速可達(dá)14000rpm，是目前普通設(shè)備轉(zhuǎn)速的4-5倍。
2.研磨分散機的特點：
①線速度很高，剪切間隙非常小，當(dāng)物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨
②定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。
③定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離
④在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
⑤高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
3.設(shè)備其它參數(shù):
設(shè)備等級：化工級、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級、無菌級
電機形式：普通馬達(dá)、變頻調(diào)速馬達(dá)、防爆馬達(dá)、變頻防爆馬達(dá)、
電源選擇： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機選配件： PTC 熱保護、降噪型
研磨分散機材質(zhì)：SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機選配：儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車
研磨分散機表面處理：拋光、耐磨處理
進出口聯(lián)結(jié)形式：法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機選配容器：本設(shè)備適合于各種不同大小的容器
4.從設(shè)備角度來分析，影響研磨分散機效果因素有以下幾點：
①研磨頭的形式（批次式和連續(xù)式）（連續(xù)式比批次式要好）
②研磨頭的剪切速率，（越大效果越好）
③研磨的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒、中齒、細(xì)齒、超細(xì)齒、越細(xì)齒效果越好）
④物料在分散墻體的停留時間、研磨分散時間（可以看作同等電機，流量越小效果越好）
⑤循環(huán)次數(shù)（越多效果越好，到設(shè)備的期限就不能再好了。）
5.線速度的計算：
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。
剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)
由上可知，剪切速率取決于以下因素：
轉(zhuǎn)子的線速率
在種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。
SGN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D（轉(zhuǎn)子直徑）X 轉(zhuǎn)速 RPM / 60
所以轉(zhuǎn)速和分散頭結(jié)構(gòu)是影響分散的一個zui重要因素，超高速分散均質(zhì)分散機的高轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細(xì)微懸浮液是zui重要的
四、二氧化硅超高速研磨分散機參數(shù)表：
|
流量*
|
輸出
|
線速度
|
功率
|
入口/出口連接
|
||
|
類型
|
l/h
|
rpm
|
m/s
|
kW
|
|
|
|
GMD 2000/4
|
300
|
9,000
|
23
|
2.2
|
DN25/DN15
|
|
|
GMD 2000/5
|
3000
|
6,000
|
23
|
7.5
|
DN40/DN32
|
|
|
GMD 2000/10
|
8000
|
4,200
|
23
|
22
|
DN80/DN65
|
|
|
GMD 2000/20
|
20000
|
2,850
|
23
|
37
|
DN80/DN65
|
|
|
GMD 2000/30
|
40000
|
1,420
|
23
|
55
|
DN150/DN125
|
|
|
GMD2000/50
|
120000
|
1,100
|
23
|
110
|
DN200/DN150
|
|
|
*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，同時流量可以被調(diào)節(jié)到zui大量的10%。
|
||||||
1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。
2 處理量取決于物料的粘度，稠度和ZUI終產(chǎn)品的要求。
北京納米二氧化硅分散液研磨分散機，ox50納米氧化硅分散液分散機，連續(xù)式研磨分散機，改進型膠體磨研磨分散機
