放射源鉛板厚度
這個(gè)有多方面因素影響。
1.你是要做盛放放射源的鉛盒,還是要做放射源使用場所的防護(hù)墻。
2.你是要求放射源屏蔽體周圍達(dá)到什么水平,本底還是滿足一般標(biāo)準(zhǔn)要求就可以。
追問
鉛盒 滿足一般標(biāo)準(zhǔn)要求就行
追答
3.7×10的8次方Bq為10毫居里,Cs137的照射量常數(shù)為0.33倫*米2/(小時(shí)*居里)
則無屏蔽時(shí)照射量率為3.3*10E-3倫琴/小時(shí),約28.9*10E-6格瑞/小時(shí)。
按周圍2.5微格瑞/小時(shí) 控制,減弱倍數(shù)約為11.063。
查Cs在鉛中的減弱圖表,減弱倍數(shù)約為11.1倍時(shí),需要約2.7cm
X光室施工建設(shè)標(biāo)準(zhǔn)
一:墻體要求;
攝影機(jī)房有用線束朝向的墻壁應(yīng)有2mm鉛當(dāng)量的防護(hù)厚度,其他側(cè)墻應(yīng)有1mm鉛當(dāng)量的防護(hù)厚度。紅磚墻體厚度大于或等于240mm,墻體外增設(shè)1.5mm墻壁。外部采用防輻射型涂料進(jìn)行射線防護(hù)。
二:門窗要求;
機(jī)房的門窗必須合理設(shè)置,并有其所在墻壁相同的防護(hù)厚度,采用手動(dòng)推拉防護(hù)門【內(nèi)部結(jié)構(gòu)為鋼架結(jié)構(gòu)、外部為特種防氧化墻壁】。門四周要求具有防塵軟墊。機(jī)房門外要有電離輻射標(biāo)志,并安設(shè)醒目的工作指示燈。
臨安鉛玻璃生產(chǎn)廠家阿拉爾防輻射鉛玻璃制定
三:觀察窗要求:
走廊側(cè)墻體設(shè)置觀察窗,與X線機(jī)機(jī)床相對(duì),下緣距地面約1.2m。裝有防輻射鉛玻璃,設(shè)3.0mm鉛當(dāng)量防護(hù),面積800mm*600mm,四周配鋁合金框。
1、如果是舊機(jī)房,須把墻面裝修層、批蕩層均打掉,露出磚體,天花露出水泥預(yù)制板,然后和新機(jī)房一樣按下面流程做.
2、施工前,墻面、地面用水泥沙漿批平(8-10mm厚),然后開始做防護(hù)層.
3、水泥:防護(hù)硫酸鋇:=1:4(1包50Kg水泥,配4包50Kg/包的防護(hù)硫酸鋇).
4、機(jī)房墻身防護(hù),3.5mm pb相當(dāng)于35-42mm厚左右,分4次批.**、二次均為每次批蕩1mmpb即用一包批1個(gè)平方,約10-12mm厚,每批一次,等干透發(fā)白后,再批第二次;第三次為批蕩0.5mmpb即用一包批2個(gè)平方,約5-6mm厚;之后在墻上掛網(wǎng),然后再批蕩1mmpb即用一包批1個(gè)平方,約10-12mm厚;天花批1mmpb相當(dāng)于10-12mm厚,可掛網(wǎng)一次批完;地面批2mmpb相當(dāng)于20-24mm厚,也可一次批完.
5、墻面、地面防護(hù)硫酸鋇批蕩完后,用水泥批平(約1-2mm厚)做保護(hù)層, 然后可進(jìn)行任何方式的表面裝修處理.
防護(hù)工程的操作:X光室或普通牙科診室-如果只是做墻體和地板的防護(hù),建議用硫酸鋇砂,硫酸鋇砂和水泥按4:1的比例(4份硫酸鋇+1份水泥)混合涂抹在墻體或地板上,厚度,墻體一般只需要30mm就可以,地板30mm。用鉛板防護(hù)也可以(1--2mm厚度即可)鉛防護(hù)門:鉛當(dāng)量達(dá)到3當(dāng)量即可,觀察窗:鉛玻璃厚度達(dá)到15mm即可
CT室、探傷室--墻體必須要用鉛板(55薄3mm)做防輻射阻斷,地板可以用硫酸鋇+水泥按4:1的比例涂抹40mm。鉛防護(hù)門:鉛當(dāng)量必須達(dá)到4-5當(dāng)量。觀察窗:鉛玻璃厚度必須達(dá)到10mm。
承接大小射線防護(hù)工程設(shè)計(jì)與施工、防輻射裝修 、 防護(hù)工程 、 鉛門的安裝 、 硫酸鋇的施工方法、 鉛板的安裝方法 、 鉛玻璃的選用與安裝 價(jià)格低 、 質(zhì)量好 、 現(xiàn)貨供應(yīng) 、 發(fā)貨快、 周到、 大量批發(fā) 、廠家規(guī)格齊全 、 可定做。
阿拉爾防輻射鉛玻璃制定生意社12月12日訊、據(jù)統(tǒng)計(jì)局12月12日消息,日前,統(tǒng)計(jì)局發(fā)布了2017年中國創(chuàng)新指數(shù)測算結(jié)果,統(tǒng)計(jì)局社科文司統(tǒng)計(jì)師關(guān)曉靜就2017年中國創(chuàng)新指數(shù)的發(fā)展特點(diǎn)進(jìn)行了解讀。關(guān)曉靜表示,從測算結(jié)果看,2017年中國創(chuàng)新指數(shù)為196.3,比上年增長6.8%;在四個(gè)創(chuàng)新分領(lǐng)域的21個(gè)指標(biāo)中,有19個(gè)指標(biāo)比上年有所提高,其中享受加計(jì)扣除減免稅企業(yè)占比、基礎(chǔ)研究人員人均經(jīng)費(fèi)、有研發(fā)機(jī)構(gòu)企業(yè)占比、百家企業(yè)商標(biāo)擁有量及萬名科技活動(dòng)人員技術(shù)市場成交額等5個(gè)指標(biāo)均實(shí)現(xiàn)兩位數(shù)增長。中國創(chuàng)新指數(shù)的走勢表明,我國深入實(shí)施創(chuàng)新驅(qū)動(dòng)發(fā)展戰(zhàn)略成效顯著,創(chuàng)新能力的不斷提升為推動(dòng)高質(zhì)量發(fā)展提供了強(qiáng)大動(dòng)力。