ALPHA STATION 255 300MCPU現(xiàn)貨nikon 尼康曝光機(jī)主機(jī)維修
概述
對(duì)光刻而言，其最重要的工藝控制項(xiàng)有兩個(gè)，其一是條寬控制，其二是對(duì)位控制。隨著產(chǎn)品特征尺寸的越來越小，條寬和對(duì)位控制的要求也越來越高。目前0.5um的產(chǎn)品，條寬的要求一般是不超過中心值的10%，即條寬在0.5±0.05um之間變化；對(duì)位則根據(jù)不同的層次有不同的要求，一般而言，在多晶和孔光刻時(shí)對(duì)位的要求最高，特別是在孔光刻時(shí)，由于孔分為有源區(qū)和多晶上的孔，對(duì)位的要求更高，部分產(chǎn)品多晶上孔的對(duì)位偏差甚至要求小于0.14um。
在現(xiàn)在的IC電路制造過程中，一個(gè)完整的芯片一般都要經(jīng)過十幾到二十幾次的光刻，在這么多次光刻中，除了第一次光刻以外，其余層次的光刻在曝光前都要將該層次的圖形與以前層次留下的圖形對(duì)準(zhǔn)。對(duì)位的過程存在于上版和圓片曝光的過程中，其目的是將光刻版上的圖形最大精度的覆蓋到圓片上已存在的圖形上。它包括了以下幾部分：光刻版對(duì)位系統(tǒng)、圓片對(duì)位系統(tǒng)（又包括LSA、FIA等）。對(duì)于NIKON的步進(jìn)重復(fù)曝光機(jī)（Step & Repeat）而言，對(duì)位其實(shí)也就是定位，它實(shí)際上不是用圓片上的圖形與掩膜版上的圖形直接對(duì)準(zhǔn)來對(duì)位的，而是彼此獨(dú)立的，即，確定掩膜版的位置是一個(gè)獨(dú)立的過程，確定圓片的位置又是另一個(gè)獨(dú)立的過程。它的對(duì)位原理是，在曝光臺(tái)上有一基準(zhǔn)標(biāo)記，可以把它看作是定位用坐標(biāo)系的原點(diǎn)，所有其它的位置都相對(duì)該點(diǎn)來確定的。分別將掩膜版和圓片與該基準(zhǔn)標(biāo)記對(duì)準(zhǔn)就可確定它們的位置。在確定了兩者的位置后，掩膜版上的圖形轉(zhuǎn)移到圓片上就是對(duì)準(zhǔn)的。
維修時(shí)間 標(biāo)準(zhǔn)時(shí)間10個(gè)工作日，加急3個(gè)工作日，對(duì)修復(fù)部位保修三個(gè)月。
◆本公司回收各種損壞的變頻器、觸摸屏、電源、伺服驅(qū)動(dòng)等。貴單位如有上述各方面的維修需求，請(qǐng)帶壞電路板來我公司考察、維修，以便建立長期的業(yè)務(wù)關(guān)系。我們將以高度的熱情、精湛的技術(shù)為貴單位排除一切因電路板故障造成的諸多不便，竭盡全力保障生產(chǎn)順利進(jìn)行。
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