| 產(chǎn)品參數(shù) | |||
|---|---|---|---|
| 品牌 | 美國(guó)PIE | ||
| 是否支持加工定制 | 否 | ||
| 是否進(jìn)口 | 是 | ||
| 電源 | 220V | ||
| 用途范圍 | 等離子蝕刻、去膠、表面清潔和活化 | ||
| 艙體大小 | 直徑160mm x 深280mm | ||
| 氣路控制 | 標(biāo)配兩路MFC，最多可選配三路MFC | ||
| 控制系統(tǒng) | 7英寸電阻觸摸屏操作界面 | ||
| 射頻頻率 | 13.56MHz | ||
| 射頻功率 | 標(biāo)配0~150W，可選配300W或500W | ||
| 可售賣地 | 全國(guó) | ||
| 材質(zhì) | 高純度圓柱形石英艙 | ||
| 型號(hào) | Tergeo-Plus | ||
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1）引線鍵合、倒裝芯片底部填充、器件封裝；
2）用于碳質(zhì)污染物去除和氧化物還原的SEM/TEM樣品清潔；
3）生物醫(yī)用涂層前的表面處理及提高醫(yī)用植入物的親水性；
4）環(huán)氧樹脂粘合前的光學(xué)、玻璃和基板清潔；
5）光刻膠灰化、去渣和硅晶片清洗；
6）PDMS、微流體、載玻片和芯片實(shí)驗(yàn)室；
7）金屬與金屬或復(fù)合材料改進(jìn)結(jié)合；
8）塑料、聚合物和復(fù)合材料改進(jìn)粘合；
1、擁有雙等離子體源
兩種清洗模式:直接模式和下游模式。用于高速蝕刻和表面改性的直接模式等離子體清洗:遠(yuǎn)程/下游模式等離子體清洗，用于溫和去除表面污染物，例如SEM/TEM脆弱易碎樣品清洗。
直接/浸入式清洗模式
遠(yuǎn)程/下游式清洗模式
2、等離子傳感器
可實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)等離子狀態(tài)，并為用戶提供不同配方條件下等離子強(qiáng)度的定量反饋，實(shí)時(shí)顯示在液晶觸摸屏顯示器上。等離子傳感器還可以監(jiān)測(cè)等離子灰化過(guò)程的進(jìn)程并用作終點(diǎn)指示器。
3、連續(xù)或脈沖等離子
脈沖比可以從100 調(diào)整到小于1。改變等離子體強(qiáng)度超過(guò)幾個(gè)數(shù)量級(jí)。
4、過(guò)程控制功能
壓力傳感器、溫度傳感器、MFC中的氣體流量計(jì)、雙等離子體強(qiáng)度傳感器、自動(dòng)阻抗匹配。
1、控制系統(tǒng)
1）操作界面：7英寸電阻觸摸屏操作界面，支持多種工作方式。
2）程序控制：可編程，總共有20個(gè)程序，每個(gè)程序有3個(gè)清潔步驟。
2、反應(yīng)腔體
1）腔體材質(zhì)：圓柱形石英玻璃艙；
2）腔體容積：5.6L；
3）腔體尺寸：內(nèi)徑：160毫米，深度：280毫米。
3、射頻電源
1）射頻頻率：13.56MHz；
2）射頻功率：標(biāo)配0~75W；從0瓦到75瓦之間以1瓦間距連續(xù)可調(diào)，可選配150瓦、300瓦和500瓦。
4、等離子源
1）等離子強(qiáng)度探測(cè)器實(shí)時(shí)測(cè)量等離子源強(qiáng)度。
2）外置電極設(shè)計(jì)，高壓電極不合等離子接觸以避免金屬濺射造成的樣品污染。
5、氣體控制
1）氣路控制：標(biāo)配兩路MFC；可選配三路MFC；
2）質(zhì)量流量計(jì)可以在0~100sccm之間準(zhǔn)確控制氣體流量；
3）一路(Venting and purging)氣體入口用來(lái)快速給樣品室放氣和沖走殘余處理氣體。
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