| 產(chǎn)品參數(shù) | |||
|---|---|---|---|
| 品牌 | Mycro | ||
| 是否支持加工定制 | 否 | ||
| 是否進(jìn)口 | 否 | ||
| 曝光光源 | 紫外LED | ||
| 光源波長(zhǎng) | 365nm | ||
| 曝光面積 | 4英寸/6英寸 | ||
| 曝光方式 | 單面接觸式定時(shí)曝光 | ||
| 曝光分辨率 | 2μm | ||
| 曝光強(qiáng)度 | 20~200mW/cm2 | ||
| 曝光不均勻性 | ≤5 | ||
| 光源平行性 | ≤2° | ||
| 可售賣地 | 全國(guó) | ||
1.產(chǎn)品介紹
桌面微型光刻機(jī)，專為微米級(jí)圖案制作而設(shè)計(jì)，旨在保障卓越的圖形轉(zhuǎn)移精度。設(shè)備采用紫外LED冷光源，結(jié)合雙非球面石英透鏡，可生成半角<2°的平行光，相較傳統(tǒng)接觸式曝光機(jī)，其極致緊湊的體積將移形換影置于桌面之上，為操作提供了便利與精準(zhǔn)。
該光刻機(jī)廣泛適用于微流控芯片、MEMS器件、光電子器件以及聲表面波器件等制備領(lǐng)域。其性能尤其適合高校、科研院所以及企業(yè)展開微細(xì)加工工藝研究。緊隨現(xiàn)代技術(shù)的步伐，桌面微型光刻機(jī)的問(wèn)世為微納加工注入了新的活力，助力客戶在項(xiàng)目目標(biāo)的實(shí)現(xiàn)過(guò)程中邁向更高精度、更具創(chuàng)新性的階段。
2.技術(shù)參數(shù)
曝光光源:紫外LED；
光源波長(zhǎng):365nm;
曝光面積:4英寸、6英寸可選;
曝光方式:單面接觸式定時(shí)曝光;
曝光分辨率:2um;
曝光強(qiáng)度:30~120mW/cm2可調(diào)；
曝光不均勻性:<5;
光源平行性:≤2°
光源壽命:>20000h;
電源輸入:AC220V±10V，50HZ
功率:250W
重量:約22kg
外形尺寸:382(長(zhǎng))*371(寬)*435(高)工作環(huán)境:溫度0℃-40℃，相對(duì)濕度<80
