| 產(chǎn)品參數(shù) | |||
|---|---|---|---|
| 品牌 | 華諾激光 | ||
| 服務(wù)區(qū)域 | 全國(guó) | ||
| 加工地 | 北京，天津 | ||
| 加工精度 | ±20um | ||
| 加工定制 | 是 | ||
| 加工厚度 | 0.01--3mm | ||
| 加工周期 | 1-3天 | ||
| 加工規(guī)格 | 100*200mm | ||
| 封裝 | 獨(dú)立封裝 | ||
| 加工材質(zhì) | 304不銹鋼，金屬類材質(zhì) | ||
| 數(shù)量 | 99999 | ||
| 設(shè)備類型 | 激光 | ||
| 批號(hào) | HN-L20220830 | ||
| 功率 | 100W | ||
| 可售賣地 | 北京;天津;河北;山西;內(nèi)蒙古;遼寧;吉林;黑龍江;上海;江蘇;浙江;安徽;福建;江西;山東;河南;湖北;湖南;廣東;廣西;海南;重慶;四川;貴州;云南;西藏;陜西;甘肅;青海;寧夏;新疆 | ||
| 型號(hào) | HN-YMB-L0000 | ||
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定制高精度超薄掩模版長(zhǎng)方形MASK金屬碼盤芯片掩模板來圖激光切割
華諾激光專業(yè)定做掩膜版 mask 金屬掩模板 不銹鋼掩膜版 ，主要適合于高校、科研所、高科技公司的實(shí)驗(yàn)室使用，也適合于工廠批量生產(chǎn)，掩模板可以應(yīng)用于電子束蒸發(fā)，熱蒸發(fā)，磁控濺射等真空鍍膜設(shè)備中，用來制備OTFT、OPV、OLED、鈣鈦礦太陽(yáng)能電池，光電探測(cè)器，場(chǎng)效應(yīng)晶體管等各種器件圖形化薄膜和電極。由于都是定制的產(chǎn)品，具體價(jià)格需要發(fā)圖紙確認(rèn)后，才能正式報(bào)價(jià)。光刻掩膜版（又稱光罩，英文為Mask Reticle），簡(jiǎn)稱掩膜版，是微納加工技術(shù)常用的光刻工藝所使用的圖形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形結(jié)構(gòu)，再通過曝光過程將圖形信息轉(zhuǎn)移到產(chǎn)品基片上。不銹鋼掩模板是以不銹鋼材料為基板生產(chǎn)的掩模板，此掩模板的特是平整度好、精度高、金屬硬度高可以反復(fù)使用，適用于蒸鍍線路、電極、芯片層等。受高校研發(fā)部門、科研所喜愛。
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