.jpg "RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)PlasmaStar100等離子刻蝕機(jī)表面處理儀")
| 產(chǎn)品參數(shù) | |||
|---|---|---|---|
| 品牌 | PlasmaSTAR | ||
| 是否支持加工定制 | 否 | ||
| 是否進(jìn)口 | 是 | ||
| 射頻頻率 | 13.56 MHz | ||
| 射頻功率 | 0~600W瓦之間距連續(xù)可調(diào)，自動(dòng)匹配 | ||
| 控制系統(tǒng) | 電阻觸摸屏操作界面 | ||
| 可編程序 | |||
| 無線存儲(chǔ)數(shù)據(jù) | |||
| 氣路控制 | 標(biāo)配2路MFC，最多可選配4路 | ||
| 設(shè)備尺寸 | 寬800 x 深850 x 高525mm | ||
| 工藝均勻性 | ≥±10 | ||
| 可售賣地 | 全國 | ||
| 材質(zhì) | 硬質(zhì)陽極氧化鋁矩形腔體 | ||
| 型號 | PlasmaStar 100/100RIE | ||
一、反應(yīng)離子刻蝕機(jī)PlasmaStar 100儀器介紹
1、腔體尺寸：直徑≥200mm，深度≥280mm；
2、腔體材質(zhì)：硬質(zhì)陽極氧化鋁矩形腔體；
3、處理腔背面材質(zhì)：鋁；
4、處理腔門：要求全自動(dòng)腔門；
5、兩路工藝氣體，≥2路質(zhì)量流量控制器控制氣體流量，氣體輸入腔室?guī)蛄髟O(shè)計(jì)；
6、射頻功率：0~600W連續(xù)可調(diào)，13.56MHz，自動(dòng)匹配，自然風(fēng)冷；
7、配備RIE平面水冷平板電極；
8、7英寸及以上顯示器、觸摸屏、圖形用戶界面；?
9、程序控制：觸摸屏電腦控制，無線程序存儲(chǔ)；
10、Windows操作系統(tǒng)，兼容Windows office軟件，USB接口，可進(jìn)行外部電腦遠(yuǎn)程控制的功能；
11、狀態(tài)和出錯(cuò)信息提示，過程數(shù)據(jù)和出錯(cuò)信息存儲(chǔ)，可選擇自動(dòng)和手動(dòng)操作模式，過程數(shù)據(jù)可以導(dǎo)出，工藝參數(shù)以圖形方式呈現(xiàn)，可實(shí)時(shí)監(jiān)控，自動(dòng)實(shí)現(xiàn)泄露檢測；
12、配套緊急急停按鈕（EMO)，配套電路斷路器，機(jī)械聯(lián)鎖（門傳感器）和真空聯(lián)鎖（壓力開關(guān)），通過軟件可進(jìn)行遠(yuǎn)程的真空聯(lián)鎖；
13、典型的光刻膠刻蝕速率：80nm/min；
14、典型工藝均勻性：≥±10；
邁可諾技術(shù)有限公司
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