| 產(chǎn)品參數(shù) | |||
|---|---|---|---|
| 品牌 | 華諾激光 | ||
| 加工周期 | 3-5天 | ||
| 適用工件 | 蒸鍍掩膜版、科研實驗掩膜版、金屬MASK、金屬遮罩、叉指電極掩膜版 | ||
| 加工定制 | 是 | ||
| 自動化程度 | 全自動 | ||
| 年最大加工能力 | 999999 | ||
| 產(chǎn)品材質(zhì) | 不銹鋼、銅、鋁、鉬、鈦合金 | ||
| 加工精度 | ±20um | ||
| 打樣周期 | 1-3天 | ||
| 加工厚度 | 0.05-2.5mm | ||
| 應(yīng)用范圍 | 鍍膜、光刻、科研等 | ||
| 產(chǎn)地 | 北京天津 | ||
| 售賣地 | 全國 | ||
| 可售賣地 | 北京;天津;河北;山西;內(nèi)蒙古;遼寧;吉林;黑龍江;上海;江蘇;浙江;安徽;福建;江西;山東;河南;湖北;湖南;廣東;廣西;海南;重慶;四川;陜西;甘肅 | ||
| 用途 | 掩膜版定制加工 | ||
| 型號 | CN230301858 | ||
.jpg)
掩膜版的功能類似于傳統(tǒng)照相機的底片。制造商通常根據(jù)客戶所需要的圖形，用光刻機在原材料上光刻出 相應(yīng)的圖形，將不需要的金屬層和膠層洗去，即得到掩膜版。掩膜版的原材料掩膜版基板是制作微細(xì)光掩膜圖形的感光空白板。通過光刻制版工藝，將微米級和納米級的精細(xì)圖案刻制于基板上制作成掩膜版。掩膜版的作 用主要體現(xiàn)為利用已設(shè)計好的圖案，通過透光與非透光方式進行圖像（電路圖形）復(fù)制，從而實現(xiàn)批量生產(chǎn)。
我司專業(yè)定做掩膜版 掩模板 掩膜板 掩模版 mask 金屬掩模板 不銹鋼掩膜版 ，主要適合于高校、科研所、高科技公司的實驗室使用，也適合于工廠批量生產(chǎn)，掩模板可以應(yīng)用于電子束蒸發(fā)，熱蒸發(fā)，磁控濺射等真空鍍膜設(shè)備中，用來制備OTFT、OPV、OLED、鈣鈦礦太陽能電池，光電探測器，場效應(yīng)晶體管等各種器件圖形化薄膜和電極。由于都是定制的產(chǎn)品，具體價格需要發(fā)圖紙確認(rèn)后，才能正式報價。我公司產(chǎn)品均按客戶圖紙單獨定制，退回?zé)o法再銷售，如有品質(zhì)問題，需按我司標(biāo)準(zhǔn)裁決，如超出我司標(biāo)準(zhǔn)，我們一定會以誠信為本，承擔(dān)責(zé)任（免費重做），但不承擔(dān)額外的損失，請客戶檢驗好再使用，謝謝！
.jpg)
