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產(chǎn)品簡(jiǎn)介
反應(yīng)離子刻蝕機(jī)PlasmaStar100等離子刻蝕機(jī)表面處理儀
反應(yīng)離子刻蝕機(jī)PlasmaStar100等離子刻蝕機(jī)表面處理儀
產(chǎn)品價(jià)格:¥100.00
上架日期:2023-09-13 19:06:53
產(chǎn)地:上海上海
發(fā)貨地:上海上海
供應(yīng)數(shù)量:不限
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詳細(xì)說(shuō)明
    產(chǎn)品參數(shù)
    品牌美國(guó)PlasmaStar
    規(guī)格100mm
    外形尺寸100mm
    顯示方式7英寸大液晶觸摸屏
    輸入功率300W
    毛重120kg
    傳感器類型電感式
    發(fā)貨地武漢
    產(chǎn)地美國(guó)(原裝進(jìn)口)
    起訂量1套起批
    可售賣地全國(guó)
    型號(hào)PlasmaStar100/100RIE

    一、反應(yīng)離子刻蝕機(jī)PlasmaStar 100儀器介紹

    PlasmaSTAR?系列等離子處理系統(tǒng)適合處理所有的材料,擁有多種腔室和電極配置,可滿足不同的等離子工藝和基片尺寸。占地面積小,用于各種等離子工藝的模塊化腔室和電極配置。此外,觸摸屏計(jì)算機(jī)控制,多級(jí)程序控制和組件控制,操作簡(jiǎn)單。PlasmaSTAR?模塊化腔室和電極組件是該系統(tǒng)的獨(dú)特功能。 腔室材料是硬質(zhì)陽(yáng)極氧化鋁, 有幾種不同的電極設(shè)計(jì),包括用于反應(yīng)離子刻蝕(RIE)和平面處理的水冷平板電極,用于表面清洗或處理的交替多層托盤電極,用于最小化離子損傷的下游電極,和用于普通的圓柱形籠式電極。


    1、腔體尺寸:直徑≥200mm,深度≥280mm;

    2、腔體材質(zhì):硬質(zhì)陽(yáng)極氧化鋁矩形腔體;

    3、處理腔背面材質(zhì):鋁;

    4、處理腔門:要求全自動(dòng)腔門;

    5、兩路工藝氣體,≥2路質(zhì)量流量控制器控制氣體流量,氣體輸入腔室?guī)蛄髟O(shè)計(jì);

    6、射頻功率:0~600W連續(xù)可調(diào),13.56MHz,自動(dòng)匹配,自然風(fēng)冷;

    7、配備RIE平面水冷平板電極;

    8、7英寸及以上顯示器、觸摸屏、圖形用戶界面;?

    9、程序控制:觸摸屏電腦控制,無(wú)線程序存儲(chǔ);

    10、Windows操作系統(tǒng),兼容Windows office軟件,USB接口,可進(jìn)行外部電腦遠(yuǎn)程控制的功能;

    11、狀態(tài)和出錯(cuò)信息提示,過(guò)程數(shù)據(jù)和出錯(cuò)信息存儲(chǔ),可選擇自動(dòng)和手動(dòng)操作模式,過(guò)程數(shù)據(jù)可以導(dǎo)出,工藝參數(shù)以圖形方式呈現(xiàn),可實(shí)時(shí)監(jiān)控,自動(dòng)實(shí)現(xiàn)泄露檢測(cè);

    12、配套緊急急停按鈕(EMO),配套電路斷路器,機(jī)械聯(lián)鎖(門傳感器)和真空聯(lián)鎖(壓力開關(guān)),通過(guò)軟件可進(jìn)行遠(yuǎn)程的真空聯(lián)鎖;

    13、典型的光刻膠刻蝕速率:80nm/min;

    14、典型工藝均勻性:≥±10;



    邁可諾技術(shù)有限公司

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