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產(chǎn)品簡介
ASML激光器4022 455 0986
ASML激光器4022 455 0986
產(chǎn)品價格:¥1281
上架日期:2025-02-07 15:57:32
產(chǎn)地:國外國外
發(fā)貨地:全國全國
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詳細說明

    ASML激光器4022 455 0986

    ASML激光器4022 455 0986作為先進光刻技術中的關鍵組件,其優(yōu)越的性能和精準的參數(shù)對于半導體制造具有至關重要的意義。下面將詳細介紹該激光器的各項參數(shù),以便讀者更好地了解其特性和應用。基本參數(shù)型號:ASML 4022 455 0986激光類型:深紫外(DUV)激光器波長:193納米輸出功率:高達500瓦光束質量:優(yōu)異的光束質量(M2<1.2),確保光刻過程中的高精度和均勻性。光學性能穩(wěn)定性:具備極高的功率穩(wěn)定性(<±1%),保證長時間運行中的性能一致性。頻率:高重復頻率,支持快速曝光,提高生產(chǎn)效率。光束模式:基模(TEM00),提供的光束聚焦效果。偏振態(tài):線性偏振,滿足先進光刻工藝的要求。機械與電氣特性尺寸:緊湊型設計,便于集成到復雜的光刻系統(tǒng)中。冷卻方式:高效液體冷卻系統(tǒng),確保激光器在高功率工作條件下的穩(wěn)定性。電源要求:支持廣泛的電源輸入范圍,適應不同國家和地區(qū)的標準。接口:提供多種通信接口,方便與光刻機其他部分的連接和控制。環(huán)境要求工作溫度:20°C至25°C,嚴格控制溫度以保證性能。濕度:30%至60%相對濕度,避免潮濕環(huán)境對激光器的影響。潔凈度:ISO 5級潔凈室環(huán)境,確保激光器的長期穩(wěn)定運行。應用領域ASML激光器4022 455 0986主要用于半導體晶片制造中的光刻工藝,其高精度和高穩(wěn)定性使得它成為生產(chǎn)先進芯片不可或缺的設備。該激光器在7納米及以下工藝節(jié)點中表現(xiàn)出色,為芯片制造商提供了可靠的技術支持。維護與支持ASML提供全面的維護和技術支持服務,包括定期維護、快速響應的維修服務和專業(yè)的技術咨詢。這些服務確保激光器能夠在狀態(tài)下運行,最大限度地減少生產(chǎn)中斷的風險。綜上所述,ASML激光器4022 455 0986憑借其卓越的性能參數(shù)和穩(wěn)定的運行特性,在半導體光刻領域占據(jù)了重要地位。其先進的技術和可靠的性能為全球芯片制造商提供了強有力的支持。

    ASML激光器4022 455 0986



























































































































































































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