電子探針、透射電鏡、X-射線衍射儀、X-射線熒光光譜儀、等離子質(zhì)譜儀、等離子發(fā)射光譜儀、離子色譜儀、原子吸收光譜儀、大型光柵光譜儀、紫外可見分光光度計(jì)、氮氧測(cè)定儀、碳硫測(cè)定儀、光電直讀光譜儀、掃描電鏡、粒度分析儀、拉力試驗(yàn)機(jī)、疲勞試驗(yàn)機(jī)、摩擦磨損試驗(yàn)機(jī)、硬度計(jì)等300余臺(tái)套，總資產(chǎn)約3800余萬元。實(shí)驗(yàn)室面積約4000平方米。
主要技術(shù)指標(biāo)：
1、點(diǎn)分辨率：0.25nm；線分辨率：0.102nm；STEM分辨率：0.20nm
2、加速電壓：80，100，160，200KV
3、傾斜角（X/Y）：±42/±30°；
4、配備德國(guó)Bruker公司XFlash 5030T型X射線能譜儀
應(yīng)用范圍：
1.應(yīng)用于材料科學(xué)、生命科學(xué)、醫(yī)療、制藥、半導(dǎo)體、納米技術(shù)等領(lǐng)域的顯微形貌、晶體結(jié)構(gòu)和相組織的觀察與分析；
2.各種材料微區(qū)化學(xué)成分的定性和半定量檢測(cè)；
3.粉末、納米粒子形態(tài)和粒度測(cè)定；
4.復(fù)合材料界面特性的研究。
| 德國(guó)蔡司 | GeminSEM 300場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡 |
電子槍加速電壓:0.02KV~30KV 放大倍速 :12~200000; 放大倍速差 :≤±10% 分辨率:15KV可達(dá)0.7nm ; 1KV下可達(dá)1.0nm 配置EDS及EBSD 檢測(cè)元素:Be~U |
寄送樣品: 800-1000/樣品 現(xiàn)場(chǎng)看樣: 800-1000/小時(shí) |
