中國化學(xué)機械拋光(CMP)技術(shù)市場調(diào)研及發(fā)展規(guī)劃報告2024-2030年
mm+mm+mmmm+mm+mm+mm+mm+mm+mm+mm+mm+mm+mm
【報告編號】 56650
【出版機構(gòu)】:中信博研研究網(wǎng)
【交付方式】:emil電子版或特快專遞
【報告價格】:【紙質(zhì)版】:6500 【電子版】:6800 【合訂版】:7000
【手機微信同步】15001081554
【聯(lián) 系 人】: 胡經(jīng)理---專員
報告中數(shù)據(jù)實時更新--訂購享售后服務(wù)一年
【報告目錄】
第一章 化學(xué)機械拋光（CMP）技術(shù)相關(guān)概述
1.1 CMP技術(shù)概述
1.1.1 CMP技術(shù)概念
1.1.2 CMP工作原理
1.1.3 CMP反應(yīng)原理
1.2 CMP技術(shù)研究情況
1.2.1 CMP設(shè)備
1.2.2 CMP拋光墊
1.2.3 CMP拋光液磨粒
1.2.4 CMP拋光液氧化劑
1.2.5 CMP拋光液其它添加劑
第二章 2023-2024年中國化學(xué)機械拋光（CMP）技術(shù)發(fā)展環(huán)境
2.1 政策環(huán)境
2.1.1 行業(yè)相關(guān)支持政策
2.1.2 應(yīng)用示范指導(dǎo)目錄
2.2 經(jīng)濟環(huán)境
2.2.1 全球經(jīng)濟形勢
2.2.2 國內(nèi)經(jīng)濟運行
2.2.3 工業(yè)經(jīng)濟運行
2.2.4 宏觀經(jīng)濟展望
2.3 社會環(huán)境
2.3.1 人口結(jié)構(gòu)狀況
2.3.2 居民收入水平
2.3.3 居民消費結(jié)構(gòu)
第三章 2023-2024年中國CMP拋光材料行業(yè)發(fā)展?fàn)顩r
3.1 半導(dǎo)體材料行業(yè)發(fā)展分析
3.1.1 半導(dǎo)體材料主要細分產(chǎn)品
3.1.2 半導(dǎo)體材料行業(yè)發(fā)展歷程
3.1.3 半導(dǎo)體材料行業(yè)發(fā)展規(guī)模
3.1.4 半導(dǎo)體材料市場構(gòu)成分析
3.1.5 半導(dǎo)體材料行業(yè)發(fā)展措施
3.1.6 半導(dǎo)體材料行業(yè)發(fā)展前景
3.2 CMP拋光材料行業(yè)概述
3.2.1 拋光材料組成
3.2.2 拋光材料應(yīng)用
3.2.3 行業(yè)技術(shù)要求
3.2.4 行業(yè)產(chǎn)業(yè)鏈全景
3.3 CMP拋光材料市場發(fā)展分析
3.3.1 全球市場發(fā)展
3.3.2 國內(nèi)發(fā)展歷程
3.3.3 國內(nèi)市場發(fā)展
3.3.4 行業(yè)壁壘分析
3.4 CMP拋光液市場發(fā)展分析
3.4.1 CMP拋光液主要成分
3.4.2 CMP拋光液主要類型
3.4.3 CMP拋光液行業(yè)發(fā)展規(guī)模
3.4.4 CMP拋光液行業(yè)競爭格局
3.4.5 CMP拋光液行業(yè)發(fā)展機遇
3.4.6 CMP拋光液行業(yè)進入壁壘
3.5 CMP拋光墊市場發(fā)展分析
3.5.1 CMP拋光墊主要類別
3.5.2 CMP拋光墊主要作用
3.5.3 CMP拋光墊市場需求分析
3.5.4 CMP拋光墊行業(yè)市場規(guī)模
3.5.5 CMP拋光墊行業(yè)競爭格局
3.5.6 CMP拋光墊行業(yè)驅(qū)動因素
3.5.7 CMP拋光墊國產(chǎn)替代空間
3.6 CMP拋光材料行業(yè)制約因素
3.6.1 技術(shù)封鎖阻礙發(fā)展
3.6.2 下游認證壁壘高
3.6.3 高端人才緊缺限制
第四章 2023-2024年中國CMP設(shè)備行業(yè)發(fā)展?fàn)顩r
4.1 半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)發(fā)展情況
4.1.1 半導(dǎo)體設(shè)備概述
4.1.2 半導(dǎo)體設(shè)備發(fā)展規(guī)模
4.1.3 半導(dǎo)體設(shè)備市場需求
4.1.4 半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)格局
4.1.5 半導(dǎo)體設(shè)備國產(chǎn)化分析
4.1.6 半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)投資狀況
4.2 全球CMP設(shè)備行業(yè)發(fā)展情況
4.2.1 全球CMP設(shè)備市場分布
4.2.2 全球CMP設(shè)備競爭格局
4.2.3 全球CMP設(shè)備市場規(guī)模
4.3 中國CMP設(shè)備行業(yè)發(fā)展情況
4.3.1 CMP設(shè)備應(yīng)用場景
4.3.2 CMP設(shè)備產(chǎn)品類型
4.3.3 CMP設(shè)備市場規(guī)模
4.3.4 CMP設(shè)備市場分布
4.3.5 CMP設(shè)備市場集中度
4.3.6 CMP設(shè)備行業(yè)面臨挑戰(zhàn)
4.4 CMP設(shè)備行業(yè)投資風(fēng)險
4.4.1 市場競爭風(fēng)險
4.4.2 技術(shù)創(chuàng)新風(fēng)險
4.4.3 技術(shù)迭代風(fēng)險
4.4.4 客戶集中風(fēng)險
4.4.5 政策變動風(fēng)險
第五章 2023-2024年化學(xué)機械拋光（CMP）技術(shù)應(yīng)用領(lǐng)域發(fā)展分析——集成電路制造行業(yè)
5.1 集成電路制造行業(yè)概述
5.1.1 行業(yè)發(fā)展歷程
5.1.2 企業(yè)經(jīng)營模式
5.1.3 行業(yè)技術(shù)發(fā)展
5.2 全球集成電路制造業(yè)發(fā)展分析
5.2.1 全球集成電路產(chǎn)業(yè)態(tài)勢
5.2.2 全球集成電路市場規(guī)模
5.2.3 全球集成電路市場份額
5.2.4 全球晶圓制造產(chǎn)能分析
5.3 中國集成電路制造業(yè)發(fā)展分析
5.3.1 集成電路制造相關(guān)政策
5.3.2 集成電路制造行業(yè)規(guī)模
5.3.3 集成電路制造行業(yè)產(chǎn)量
5.3.4 集成電路制造區(qū)域發(fā)展
5.3.5 集成電路制造并購分析
5.3.6 集成電路制程升級需求
5.3.7 集成電路制造發(fā)展機遇
5.4 晶圓代工業(yè)市場運行分析
5.4.1 全球晶圓代工市場份額
5.4.2 全球晶圓代工企業(yè)擴產(chǎn)
5.4.3 全球?qū)倬A代工廠排名
5.4.4 國內(nèi)本土晶圓代工公司排名
5.4.5 晶圓代工市場發(fā)展預(yù)測
第六章 2023-2024年國外化學(xué)機械拋光（CMP）技術(shù)行業(yè)主要企業(yè)經(jīng)營情況
6.1 美國應(yīng)用材料
6.1.1 企業(yè)發(fā)展概況
6.1.2 2022年企業(yè)經(jīng)營狀況分析
6.1.3 2024年企業(yè)經(jīng)營狀況分析
6.1.4 2024年企業(yè)經(jīng)營狀況分析
6.2 荏原株式會社
6.2.1 企業(yè)發(fā)展概況
6.2.2 2022年企業(yè)經(jīng)營狀況分析
6.2.3 2024年企業(yè)經(jīng)營狀況分析
6.2.4 2024年企業(yè)經(jīng)營狀況分析
6.3 卡博特公司
6.3.1 企業(yè)發(fā)展概況
6.3.2 2024年企業(yè)經(jīng)營狀況分析
6.3.3 2024年企業(yè)經(jīng)營狀況分析
6.3.4 2024年企業(yè)經(jīng)營狀況分析
6.4 陶氏公司
6.4.1 企業(yè)發(fā)展概況
6.4.2 2022年企業(yè)經(jīng)營狀況分析
6.4.3 2024年企業(yè)經(jīng)營狀況分析
6.4.4 2024年企業(yè)經(jīng)營狀況分析
第七章 2023-2024年國內(nèi)化學(xué)機械拋光（CMP）技術(shù)行業(yè)主要企業(yè)經(jīng)營情況
7.1 華海清科
7.1.1 企業(yè)發(fā)展概況
7.1.2 拋光墊產(chǎn)品發(fā)展
7.1.3 經(jīng)營效益分析
7.1.4 業(yè)務(wù)經(jīng)營分析
7.1.5 財務(wù)狀況分析
7.1.6 核心競爭力分析
7.1.7 公司發(fā)展戰(zhàn)略
7.1.8 未來前景展望
7.2 鼎龍股份
7.2.1 企業(yè)發(fā)展概況
7.2.2 拋光墊業(yè)務(wù)發(fā)展
7.2.3 拋光液業(yè)務(wù)發(fā)展
7.2.4 經(jīng)營效益分析
7.2.5 業(yè)務(wù)經(jīng)營分析
7.2.6 財務(wù)狀況分析
7.2.7 核心競爭力分析
7.2.8 公司發(fā)展戰(zhàn)略
7.2.9 未來前景展望
7.3 安集科技
7.3.1 企業(yè)發(fā)展概況
7.3.2 企業(yè)主要產(chǎn)品
7.3.3 經(jīng)營效益分析
7.3.4 業(yè)務(wù)經(jīng)營分析
7.3.5 財務(wù)狀況分析
7.3.6 核心競爭力分析
7.3.7 公司發(fā)展戰(zhàn)略
7.3.8 未來前景展望
7.4 天通股份
7.4.1 企業(yè)發(fā)展概況
7.4.2 企業(yè)主要業(yè)務(wù)
7.4.3 經(jīng)營效益分析
7.4.4 業(yè)務(wù)經(jīng)營分析
7.4.5 財務(wù)狀況分析
7.4.6 核心競爭力分析
7.4.7 公司發(fā)展戰(zhàn)略
7.4.8 未來前景展望
第八章 化學(xué)機械拋光（CMP）技術(shù)行業(yè)項目投資案例
8.1 CMP拋光材料投資項目案例
8.1.1 項目建設(shè)內(nèi)容
8.1.2 項目投資必要性
8.1.3 項目投資概算
8.1.4 項目效益分析
8.2 CMP設(shè)備項目投資案例
8.2.1 項目基本情況
8.2.2 項目投資價值
8.2.3 項目投資概算
8.2.4 項目效益分析
第九章 2024-2030年中國化學(xué)機械拋光（CMP）技術(shù)行業(yè)發(fā)展趨勢及展望
9.1 CMP拋光材料行業(yè)發(fā)展趨勢分析
9.1.1 行業(yè)發(fā)展機遇
9.1.2 產(chǎn)品發(fā)展趨勢
9.1.3 企業(yè)發(fā)展趨勢
9.2 CMP設(shè)備行業(yè)發(fā)展趨勢分析
9.2.1 行業(yè)面臨機遇
9.2.2 行業(yè)發(fā)展前景
9.2.3 技術(shù)發(fā)展趨勢
9.3 2024-2030年中國CMP技術(shù)行業(yè)預(yù)測分析
9.3.1 2024-2030年中國CMP技術(shù)行業(yè)影響因素分析
9.3.2 2024-2030年中國CMP設(shè)備銷售規(guī)模預(yù)測
9.3.3 2024-2030年中國CMP材料市場規(guī)模預(yù)測
圖表目錄
圖表 CMP工作原理示意圖
圖表 CMP反應(yīng)原理示意圖
圖表 不同類型的CMP設(shè)備
圖表 磨料機械去除原理示意圖
圖表 中國CMP技術(shù)行業(yè)相關(guān)支持政策
圖表 電子化學(xué)品首批次應(yīng)用示范指導(dǎo)目錄
圖表 2019-2024年國內(nèi)生產(chǎn)總值及其增長速度
圖表 2019-2024年三次產(chǎn)業(yè)增加值占國內(nèi)生產(chǎn)總值比重
圖表 2019-2024年貨物進出口總額
圖表 2024年貨物進出口總額及其增長速度
圖表 2024年主要商品出口數(shù)量、金額及其增長速度
圖表 2024年主要商品進口數(shù)量、金額及其增長速度
圖表 2024年對主要國家和地區(qū)貨物進出口金額、增長速度及其比重
圖表 2024年外商直接投資及其增長速度
圖表 2024年對外非金融類直接投資額及其增長速度
圖表 2019-2024年全部工業(yè)增加值及其增長速度
圖表 2024年主要工業(yè)產(chǎn)品產(chǎn)量及其增長速度
圖表 2024年全國規(guī)模以上工業(yè)增加值同比增長速度
圖表 2024年全國規(guī)模以上工業(yè)生產(chǎn)主要數(shù)據(jù)
圖表 2024年全國三次產(chǎn)業(yè)投資占固定資產(chǎn)投資（不含農(nóng)戶）比重
圖表 2024年分行業(yè)固定資產(chǎn)投資（不含農(nóng)戶）增長速度
圖表 2024年固定資產(chǎn)投資新增主要生產(chǎn)與運營能力
圖表 2024年三次產(chǎn)業(yè)投資占固定資產(chǎn)投資（不含農(nóng)戶）比重
圖表 2024年分行業(yè)固定資產(chǎn)投資（不含農(nóng)戶）增長速度
圖表 2024年固定資產(chǎn)投資新增主要生產(chǎn)與運營能力
圖表 2024年三次產(chǎn)業(yè)投資占固定資產(chǎn)投資（不含農(nóng)戶）比重
圖表 2024年分行業(yè)固定資產(chǎn)投資（不含農(nóng)戶）增長速度
圖表 2024年固定資產(chǎn)投資新增主要生產(chǎn)與運營能力
圖表 2024年全國居民人均可支配收入平均數(shù)與中位數(shù)
圖表 2024年全國居民人均可支配收入平均數(shù)與中位數(shù)
圖表 2019-2024年全國居民人均可支配收入及其增長速度
圖表 2024年居民人均消費支出及構(gòu)成
圖表 2024年全國居民人均消費支出及其構(gòu)成
圖表 2024年居民人均消費支出及構(gòu)成
圖表 半導(dǎo)體材料主要細分產(chǎn)品
圖表 半導(dǎo)體材料行業(yè)發(fā)展歷程
圖表 2015-2024年全球半導(dǎo)體材料市場規(guī)模
圖表 2015-2024年全球半導(dǎo)體材料市場規(guī)模在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)總規(guī)模占比
圖表 2017-2024年中國半導(dǎo)體材料市場規(guī)模
圖表 全球半導(dǎo)體材料市場構(gòu)成
圖表 拋光材料中拋光液占比約1/2
圖表 CMP主要用在單晶硅片制造和前道制程環(huán)節(jié)
圖表 CMP拋光材料行業(yè)產(chǎn)業(yè)鏈
圖表 全球CMP各細分拋光材料市場份額
圖表 全球拋光液市場格局
圖表 全球拋光墊市場格局
圖表 2014-2024年中國CMP拋光材料市場規(guī)模及增長率
圖表 CMP拋光液的主要成分
圖表 各類型拋光液主要應(yīng)用領(lǐng)域
圖表 2019-2024年中國半導(dǎo)體CMP拋光液市場規(guī)模及增速
圖表 國內(nèi)外CMP拋光液主要企業(yè)經(jīng)營對比
圖表 國產(chǎn)CMP廠商應(yīng)對國產(chǎn)替代環(huán)境變化對比
圖表 CMP拋光步驟隨制程縮減而增加
圖表 拋光墊分類
